Apple Motion 3 New Features - Manuel (Page 765)

Chapitre 8 Utilisation des particules 765
Masques
Comme les images suivantes l’illustrent, vous pouvez appliquer des masques
à la couche servant de source de cellule d’un émetteur de particules.
Vous pouvez également appliquer des masques à l’objet émetteur proprement dit.
Pour en savoir plus sur l’utilisation des masques, consultez la rubrique « Masquage
d’une couche ou d’un groupe » à la page 1172.
Contrôle du temps
Dès lors que vous avez créé un système de particules, sa durée peut être aussi longue
ou courte que nécessaire, quelle que soit la durée des couches d’origine utilisées pour
le créer. La durée d’un système de particules est définie par la durée de l’objet émetteur.
La modification des options Point d’entrée ou de sortie d’un émetteur sous l’onglet
Propriétés, dans la Timeline ou la mini-Timeline change la durée de l’ensemble du
système de particules.
Par défaut, les particules sont générées par chaque cellule d’un système pendant
la durée complète de l’émetteur. La durée de chaque particule générée individuelle-
ment est définie par le paramètre Longévité de la cellule qui l’a générée et non pas
par la durée de la cellule même.
Couche source d’origine Masque de Bézier appliqué
à la couche source Système de particules
obtenu
Masque rectangle (inversé)
appliqué à l’objet émetteur