Metrohm 789 Robotic Sample Processor XL - Manuel (Page 72)

3.2 Configuration
64 Metrohm Sample Processor, Maniement
>Charger rack
pos. rotation T2 0 mm
Position de rotation pour les béchers
échantillons sur la tour 2 *
)
0…235 mm (en mm en partant de la butée supérieure)
>Charger rack
pos. spéciale T1 0 mm
Position spéciale pour les béchers
échantillons sur la tour 1 *
)
0…235 mm (en mm en partant de la butée supérieure)
>Charger rack
pos. spéciale T2 0 mm
Position spéciale pour les béchers
échantillons sur la tour 2 *
)
0…235 mm (en mm en partant de la butée supérieure)
>Charger rack
rayon de bécher * mm
Rayon de bécher effectif des positions
d’échantillons du rack
*, 1…100 mm * = quelconque
Ce réglage est nécessaire au contrôle automatique du rayon de bécher, voir
page 61.
>Charger rack
capteur bécher: tour
Sélection du détecteur de béchers
tour, pivot., non
Le détecteur de bécher contrôle la présence d’un récipient échantillon avec
une instruction MOVE. Sélectionner pour les rack d'une seule rangée la va-
leur
tour . pivot. indique le capteur Piezo sur le bras pivotant.
>Charger rack
rack offset 0.00°
Correction d’angle du rack d’échantillons
*
)
-5.00…0.00…5.00°
* ) Avec <LEARN>, il est possible de régler toutes les positions d’élévateur
citées ci-dessus et le rack offset.
Positions béchers spéciaux
>>Charger rack
>>>Pos. spéciales
Sous-menu positions spéciales
Ouvrir avec <ENTER>
Les positions de béchers spéciaux sont des places prédéfinies sur un rack
d’échantillons, qui ne sont pas traitées en tant que positions échantillons.
Elles peuvent être occupées par des béchers de rinçage ou de condition-
nement et être utilisées d'une manière précise au cours du déroulement
d’une méthode. Il est possible de définir 16 positions spéciales par rack.
Pour chaque bécher spécial, il est possible d’entrer la hauteur de travail de
l’élévateur pour tour 1 et 2, ainsi que le rayon de bécher, voir plus haut.
avec
<QUIT>, ac-
cès
au niveau supé-
rieur suivant