Hoefer HE-PLUS System - Manuel (Page 25)

•
p15
Entretien et maintenance
Nettoyage
Les unités sont plus faciles à nettoyer avec de l’eau
tiède et un détergent doux. L’eau à des températures
supérieures à 60 °C peut causer des dommages à
l’unité et de composants. Les unités ne doivent pas
être laissés dans les détergents pour plus de 30
minutes. Le réservoir doit être rincé à l’eau chaude
et d’eau distillée pour empêcher l’accumulation
de sels, mais il faut prendre soin de ne pas
endommager l’électrode ci-joint. Nettoyage vigoureux
n’est ni nécessaire ni conseillé. Séchage à l’air est
recommandé avant l’utilisation.
Décontamination RNase
Ceci peut être réalisé selon le protocole suivant:
• Laver les unités avec un détergent doux tel que
décrit ci-dessus.
• Laver avec du peroxyde d’hydrogène à 3% (H
2
O
2
)
pendant 10 minutes.
• Rincer avec 0,1% DEPC (pyrocarbonate de diéthyle)
traités de l’eau distillée.
• Attention! DEPC est un carcinogène présumé.
Toujours porter des gants et des lunettes de
sécurité.
RNaseZAP ™ (Ambion) peut également être utilisé. S’il
vous plaît consulter les instructions pour l’utilisation
avec des réservoirs de gel acrylique.
Important: Les unités ne doivent
jamais entrer en contact avec
les agents nettoyants suivants,
ceux-ci causent des dommages
irréversibles et cumulatifs:
L’acétone, phénol, du chloroforme,
tétrachlorure de carbone, le
méthanol, l’éthanol, l’alcool
isopropylique, alcalis.