Metrohm 838 Advanced Sample Processor Manual Manuel d'utilisation

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2.4 Fonctions

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MOVE

Séquence d'échant.

2 MOVE 1

: échant

1,(2)

échant.,

ext.1…ext.4

spéc.1…16

précéd.,

suivant

+pivot.,

-pivot.

+rotat.,

-rotat.

1...999

Positionner le bécher / faire

tourner le bras pivotant

1

er

paramètre: tour

(tour 2 indisponible)

2

e

paramètre: position

+/-1…999

Avec la fonction MOVE, il est possible d’aller vers des positions de rack
prédéfinies, c’est à dire, que le rack d’échantillons est positionné, par

l’intermédiaire d’une rotation du plateau tournant, de manière à ce que
la position de rack sélectionnée soit placée devant la tour. Si les travaux

sont effectués sans 786 Swing Head, il est alors seulement possible de
travailler avec les positions d’une seule et unique rangée du rack.
Si une 786 Swing Head avec bras pivotant est installée, il est possible

de sélectionner n’importe quelle position de rack. L’angle de rotation du
rack est ensuite calculé avec l’angle de pivotement du bras pivotant et

corrigé en conséquence.
Le bras pivotant d’une 786 Swing Head peut être positionné, indépen-

damment d’une position de rack, sur une position externe quelconque.
Les positions externes sélectionnables ext.1 jusqu’à ext.4 peuvent être

définies à l’intérieur du domaine de pivotement total de 0° jusqu’à
l’angle maximum de pivotement du bras pivotant. Il est ainsi possible,

par exemple, d’avoir accès à une cellule de mesure ou de mélange,
montée à côté du rack d’échantillons.

Exemples:

MOVE 1 échant.
MOVE 1 ext.1
MOVE 2 spéc.1
MOVE 2 5
MOVE 1 suivant
MOVE 1 +2

Placer bécher échantillon (défini par la variable SAMPLE) devant la tour

Pivoter le bras pivotant en position externe 1

Placer bécher spécial 1 devant la tour

Placer position de rack 5 devant la tour (positionnement absolu)

Placer position de rack suivante devant la tour

En partant de la position d’échantillon actuelle (variable SAMPLE), placer une position

de plus que la prochaine position (c’est à dire deux places plus loin) devant la tour (po-

sitionnement relatif)

Paramètre

échant.

– position de rack, correspondant à la valeur actuelle de la va-

riable SAMPLE, voir aussi chapitre 2.4.1.

ext.1

jusqu’à

4

– positions angulaires prédéfinies du bras pivotant. Ces

dernières sont définies dans la configuration de la tour, voir également
page 17.

suivant

,

précéd.

– à partir de la position momentanément actuelle de

rack, on a accès, soit à la position suivant immédiatement (

suivant

),

respectivement soit à la position précédant immédiatement (

précéd.

).

Les positions spéciales de bécher sont négligées. Si on utilise la fonc-
tion MOVE suivant sur la position de rack la plus élevée, on a alors

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Metrohm 838 Advanced Sample Processor

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