Metrohm 774 Oven Sample Processor - Manuel (Page 31)

3.1 Configuration
Afin de définir cette position de façon confortable, on peut tout d’abord ré-
gler la hauteur désirée manuellement (à l’état initial), avec les touches
<Ð> et <Ï>. Pour ce faire, placer un récipient échantillon fermé sur le
Four et conduire l’élévateur précautionneusement vers le bas, jusqu’à ce
que l’aiguille perce le septum et que l’arête inférieure du bouchon septum
corresponde à la butée supérieure de l’ouverture du Four.
On peut ensuite ouvrir le menu des configurations et dans le paramètre de
menu 'Pos. de travail', à l’aide la touche <CLEAR>, entrer la position de
l’élévateur momentanément affichée.
Position de rotation
Une rotation du rack échantillons ne peut, en principe être réalisée que
lorsque l’élévateur se trouve à une hauteur égale ou supérieure à position
de rotation.
La position de rotation doit être choisie de façon à ce qu’une rotation du
rack échantillons puisse être faite en toute sécurité. Il faut ainsi s’assurer
que lors d’une rotation de rack, aucun endommagement de l’aiguille ou du
rack lui même ne puisse intervenir. Prendre garde à ce que le récipient de
conditionnement soit un peu plus élevé que le récipient échantillon.
Comme pour la position de travail, il est aussi possible ici d’entrer la valeur
manuellement ou de l’accepter automatiquement, voir plus haut.
Position de rinçage
La position de rinçage définit un autre réglage de hauteur, nécessaire au
conditionnement, c’est à dire à la perforation du récipient de conditionne-
ment. Pour plus d’informations, consulter les exemples de méthodes pré-
sentées dans le cours de maniement.
Comme pour la position de travail, il est possible ici aussi d’entrer la valeur
manuellement ou de l’accepter automatiquement, voir plus haut.
Position spéciale
La position spéciale permet de définir une autre hauteur de l’élévateur.
Aucune instruction n’est liée aux positions de l’élévateur. Elles peuvent ainsi
en principe, être utilisées pour diverses positions d’élévateur devant être
enregistrées.
Bécher spécial (dans le sous-menu positions spéciales)
Pour chaque rack échantillons, il est possible de définir jusqu’à huit posi-
tions bécher spécial, qui ne sont pas prises en considération en tant que
récipients échantillons, lors d’un déroulement normal de méthode. Les bé-
chers spéciaux peuvent être choisis en tous temps et peuvent, par exem-
ple, servir de récipient de conditionnement. Voir les exemples de méthodes
dans le guide d’utilisation correspondant.
Il est possible d’attribuer chaque fois une position bécher 1 à [nombre de
positions échantillons], aux béchers spéciaux 'Spéc.1' jusqu’à 'Spéc.8'. La
position 0 signifie "non défini". Les béchers spéciaux sont placés de préfé-
rence sur les positions élevées de rack, de façon à pouvoir commencer la
série d’échantillons avec la position 1. La position 36 du rack standard de
l’Oven Sample Processor 774 est prédéfinie en tant que position spéciale
pour le récipient de conditionnement et ne devrait pas être utilisée diffé-
remment.
3.1.4 Unités de dosage
Afin de pouvoir automatiser le dosage de solutions auxiliaires ou
l’aspiration de la cellule de mesure, on peut connecter jusqu’à 12 appareils
de dosage à l’Oven Sample Processor 774 via Interface Dosimat 729. On
peut au choix, utiliser les Dosimats 685 et les Dosinos 700.
774 Oven Sample Processor, Mode d'emploi 25